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        真空溅射镀膜

        真空溅射镀膜栏目主要讲述了真空溅射镀膜相关溅射镀膜原理、溅射沉积成膜技术、磁控溅射镀膜、射频溅射镀膜、离子溅射镀膜等方面的知识。

        磁控溅射铁磁性靶材的主要方法
        由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度。
        合金膜的溅射沉积方法
        为使溅射系统所用靶的数量减少尽量用一个靶就能溅射沉积制取符合成分及性能要求的合金薄膜可以采用合金靶、复合镶嵌靶、以及采用多靶溅射等。
        ?#23884;?#31216;脉冲磁控溅射的工作原理
        脉冲磁控溅射一般使用矩形波电压由于所用的脉冲波?#38382;之嵌?#31216;性的因此得名为?#23884;?#31216;脉冲磁控溅射。
        磁控溅射中电磁场分布二维模拟
        本文采用计算机FORTRAN语言自主编程通过建立通电线圈磁场的数学模型对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数?#30340;?#25311;计算。
        射频磁控溅射法ZnO薄膜制备工艺的优化
        在采用射频磁控溅射在Si 和玻璃衬底?#29616;?#22791;单层ZnO 薄膜时薄膜会受到溅射功率、衬底温度、氧氩比以及工作气压等的影响。本文中将详细讨论这些因素对ZnO薄膜晶体质量应力以及光学性能的影响。
        氧分压对直流磁控溅射IGZO薄膜特性的影响
        本文采用直流磁控溅射技术在室温下通过改变氧分压的工艺条件制备了IGZO 薄膜系统性的分析了氧分压对薄膜的物相结构、表面形貌、元素结合能及电学与光学等特性的影响。
        沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响
        本文利用磁控溅射的方法通过改变基片温度制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层并利用X射线衍射(XRD) 、扫描电镜(SEM) 、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构及性能进行了分析。
        固体润滑轴承用9Cr18不锈钢离子注入与磁控溅射改性真空摩擦学研究
        为了提高空间固体润滑滚动轴承耐磨寿命采用全方位离子注入和磁控溅射技术对空间固体润滑轴承用9Cr18材料进行耐磨减摩表面改性研究。
        偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响
        本文采用中频和射频电源的双靶磁控溅射设备通过改变基片偏压制备了不同偏压的TiB2-Ni涂层。对所制备的涂层进行了结构和性能的研究探讨了偏压对其生长结构以及硬度、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学等方面的性能。
        高温铝液中TiAlN硬镀层失效机理研究
        本文以H13钢基体上的磁控溅射TiAlN镀层为研究对象通过镀层在高温铝液中长时间浸蚀后对表面、截面形貌变化和成分分析等途径探讨硬质镀层在高温铝液中的失效机理。
        大曲?#26159;鯰位?#24213;表面膜厚均匀性的实现
        针对球?#20301;?#24213;膜厚均匀性问题提出了一?#20013;?#30340;思路设计改造了一?#20013;?#22411;布局的磁控溅射设备以解决大曲?#26159;鯰位?#24213;外表面膜层的均匀性问题。
        复合高功率脉冲磁控溅射放电等离子体特性
        本文采用脉冲与直流电源并联模式的复合HIPIMS针对Ti、Cr靶研究脉冲电压对复合HIPIMS 过程中的靶电压、靶电流、电子密度(Ne)、电子温度(Te)、等离子体电势(Vs)以及基体电流等微观?#38382;?#30340;影响。
        沉积时间对磁控溅射法制备宽禁带半导体薄膜材料ZnS物性及光学性质的影响
        本文用磁控溅射法制备了ZnS薄膜并对薄膜的物理性质及光学性质进行了细致的研究。为ZnS薄膜材料的进一步应用提供了实验依据。
        叫圭科同利

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